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氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法
申请人信息
- 申请人:江西兆驰半导体有限公司
- 申请人地址:330000 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号
- 发明人: 江西兆驰半导体有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202410232512.4 |
| 申请日 | 2024/3/1 |
| 公告号 | CN117810332A |
| 公开日 | 2024/4/2 |
| IPC主分类号 | H01L33/14 |
| 权利人 | 江西兆驰半导体有限公司 |
| 发明人 | 印从飞; 张彩霞; 刘春杨; 胡加辉; 金从龙 |
| 地址 | 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号 |
摘要文本
本发明涉及半导体,具体公开一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,外延片包括衬底及外延层,所述外延层包括N型复合层,所述N型复合层包括沿外延方向依次设置的第一N型层及第二N型层,所述第一N型层为掺Si的N型GaN层,所述第二N型层为周期性依次交替层叠的掺Ge的InaGa1?aN层及掺Ge的BbGa1?bN层,所述第一N型层的Si掺杂浓度高于所述第二N型层的Ge掺杂浓度,通过N型复合层的设置,有效延缓电子的迁移速率,帮助电流的横向扩展,减小电流拥挤效应,减少漏电通道,并取消电子阻挡层,提高电子与空穴在多量子阱层的空间重合度,进而提升LED的发光效率,降低其工作电压。
专利主权项内容
1.一种氮化镓基发光二极管外延片,包括衬底及设置于所述衬底上的外延层,其特征在于,所述外延层包括沿外延方向依次设置于所述衬底上的缓冲层、本征GaN层、N型复合层、应力释放层、多量子阱层及P型层,所述N型复合层包括沿外延方向依次设置的第一N型层及第二N型层,所述第一N型层为掺Si的N型GaN层,所述第二N型层为周期性依次交替层叠的掺Ge的InGaN层及掺Ge的BGaN层,a1-ab1-b所述第一N型层的Si掺杂浓度高于所述第二N型层的Ge掺杂浓度。