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氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法

申请号: CN202410232512.4
申请人: 江西兆驰半导体有限公司
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202410232512.4
申请日 2024/3/1
公告号 CN117810332A
公开日 2024/4/2
IPC主分类号 H01L33/14
权利人 江西兆驰半导体有限公司
发明人 印从飞; 张彩霞; 刘春杨; 胡加辉; 金从龙
地址 江西省南昌市南昌高新技术产业开发区天祥北大道1717号

摘要文本

本发明涉及半导体,具体公开一种氮化镓基发光二极管外延片及其制备方法,外延片包括衬底及外延层,所述外延层包括N型复合层,所述N型复合层包括沿外延方向依次设置的第一N型层及第二N型层,所述第一N型层为掺Si的N型GaN层,所述第二N型层为周期性依次交替层叠的掺Ge的InaGa1?aN层及掺Ge的BbGa1?bN层,所述第一N型层的Si掺杂浓度高于所述第二N型层的Ge掺杂浓度,通过N型复合层的设置,有效延缓电子的迁移速率,帮助电流的横向扩展,减小电流拥挤效应,减少漏电通道,并取消电子阻挡层,提高电子与空穴在多量子阱层的空间重合度,进而提升LED的发光效率,降低其工作电压。

专利主权项内容

1.一种氮化镓基发光二极管外延片,包括衬底及设置于所述衬底上的外延层,其特征在于,所述外延层包括沿外延方向依次设置于所述衬底上的缓冲层、本征GaN层、N型复合层、应力释放层、多量子阱层及P型层,所述N型复合层包括沿外延方向依次设置的第一N型层及第二N型层,所述第一N型层为掺Si的N型GaN层,所述第二N型层为周期性依次交替层叠的掺Ge的InGaN层及掺Ge的BGaN层,a1-ab1-b所述第一N型层的Si掺杂浓度高于所述第二N型层的Ge掺杂浓度。