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基于多层膜劳厄透镜的X射线相衬显微拼接方法及系统

申请号: CN202410043209.X
申请人: 浙江大学杭州国际科创中心
更新日期: 2026-03-20

专利详细信息

项目 内容
专利名称 基于多层膜劳厄透镜的X射线相衬显微拼接方法及系统
专利类型 发明申请
申请号 CN202410043209.X
申请日 2024/1/11
公告号 CN117575901A
公开日 2024/2/20
IPC主分类号 G06T3/4038
权利人 浙江大学杭州国际科创中心
发明人 包宜骏; 杨浩彬; 匡翠方; 陶思玮; 田宗翰; 刘旭
地址 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号

摘要文本

本发明公开一种基于多层膜劳厄透镜的X射线相衬显微拼接方法及系统,系统包括:X射线处理模块限制入射X射线的发射角并进行预聚焦,得到预聚焦X射线;光源聚焦模块对预聚焦X射线实现二维聚焦,得到X射线聚焦光源;探测器模块包括吸收光栅、闪烁体及成像单元,闪烁体位于吸收光栅后方,X射线聚焦光源经吸收光栅叠加,闪烁体转换为可见光波段,在成像单元中形成样品图像及背景图像;图像获取单元获得多幅多模态显微图像,图像拼接单元对不同区域的样品图像及背景图像形成的任意两幅多模态显微图像进行拼接处理,得到拼接显微图像。通过本方法解决了菲涅尔波带片系统成像分辨率低的问题,可以得到高分辨率大视场的显微图像。

专利主权项内容

1.一种基于多层膜劳厄透镜的X射线相衬显微拼接系统,其特征在于,包括:X射线处理模块、光源聚焦模块、探测器模块及图像处理模块;X射线处理模块包括处理单元,处理单元对入射X射线进行处理,限制入射X射线的发射角并进行预聚焦,得到预聚焦X射线;光源聚焦模块包括第一多层膜劳厄透镜、第二多层膜劳厄透镜及阶次级选孔径,其中,第一多层膜劳厄透镜及第二多层膜劳厄透镜对预聚焦X射线进行二维聚焦,得到二维聚焦X射线,阶次级选孔径通过消除二维聚焦X射线中聚焦光束外衍射阶数得到X射线聚焦光源;探测器模块包括吸收光栅、闪烁体及成像单元,闪烁体位于吸收光栅后且位于泰伯距离位置处,X射线聚焦光源经吸收光栅叠加,经闪烁体转换为可见光波段,进而在成像单元中形成多幅样品图像及多幅背景图像,其中,样品图像包括相同区域的样品图像及不同区域的样品图像,相同区域的样品图像通过移动吸收光栅得到,不同区域的样品图像通过移动样品位置得到;图像处理模块包括图像获取单元及图像拼接单元,图像获取单元用于获取样品图像及背景图像并形成的多模态显微图像,图像拼接单元用于对不同区域的样品图像及背景图像形成的任意两幅多模态显微图像进行拼接处理,得到拼接显微图像。