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一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具

申请号: CN202420853731.X
申请人: 南京先锋材料科技有限公司
更新日期: 2026-03-24

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具
专利类型 实用新型
申请号 CN202420853731.X
申请日 2024/4/24
公告号 CN222119367U
公开日 2024/12/6
IPC主分类号 C23C14/34
权利人 南京先锋材料科技有限公司
发明人 梁放; 鲁波; 李宗雨
地址 江苏省南京市雨花台区茗苑路6号中国(南京)软件谷芯创产业园1号楼2层

摘要文本

本实用新型涉及一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具,旨在解决当前高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具中成型后的高电子迁移率氧化物溅射靶材不易拿取的技术问题,包括下模和上模,所述下模顶部四角布置有安装杆,所述下模顶部通过安装杆滑动安装有上模,所述下模模腔内底部布置有第二环槽,且第二环槽内部布置有弹簧,所述弹簧的顶部水平布置有圆盘,所述圆盘底部中心垂直布置有调节圆杆,且调节圆杆贯穿至下模的底部,所述调节圆杆表面等距布置有若干组第三通孔,所述第三通孔中布置有定位结构,本实用新型具备对成型后高电子迁移率氧化物溅射靶材拿取便捷的优点。

专利主权项内容

1.一种高电子迁移率氧化物溅射靶材制备模具,其特征在于,包括下模(1)和上模(2),所述下模(1)顶部四角布置有安装杆(3),所述下模(1)顶部通过安装杆(3)滑动安装有上模(2);
所述下模(1)模腔内底部布置有第二环槽(106),且第二环槽(106)内部布置有弹簧(4),所述弹簧(4)的顶部水平布置有圆盘(5);
所述圆盘(5)底部中心垂直布置有调节圆杆(6),且调节圆杆(6)贯穿至下模(1)的底部,所述调节圆杆(6)表面等距布置有若干组第三通孔(601),所述第三通孔(601)中布置有定位结构(7)。