晶元体生长用双循环冷却装置

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本实用新型涉及一种晶元体生长用双循环冷却装置，包括环形本体，以及设置在所述环形本体内部的环状送气道和环状冷却水道，在所述环形本体上设有和所述环状送气道连通的气体循环管路，在所述环形本体上设有和所述环状冷却水道连通的进水口和出水口，在所述环状冷却水道内设有截流部；在所述环形本体的圆周方向，所述进水口位于所述截流部的其中一侧外侧，所述出水口位于所述截流部的另一侧外侧。本申请优点：本申请利用在环状冷却水道中设置截流部，从根本上改变了环状冷却水道内部的水流流向，使得冷却水最大程度的流经整个装置内部，增大了环状冷却水道的冷却面积，各个区域的温度均匀，从而提高装置的晶元体生长加工效率。