← 返回列表

碳清洗装置

申请号: CN202323262620.6
申请人: 中国科学院上海应用物理研究所
更新日期: 2026-03-25

专利详细信息

项目 内容
专利名称 碳清洗装置
专利类型 实用新型
申请号 CN202323262620.6
申请日 2023/11/30
公告号 CN222112824U
公开日 2024/12/6
IPC主分类号 B08B3/08
权利人 中国科学院上海应用物理研究所
发明人 邹鹰; 陈明; 刘俊男; 朱周侠; 王勇; 邰仁忠
地址 上海市嘉定区嘉罗公路2019号

摘要文本

本实用新型涉及一种碳清洗装置,用于清洗位于辐射屏蔽墙内的镜箱内的镜面上的碳,碳清洗装置包括供氧装置和缓冲腔体,供氧装置、缓冲腔体和镜箱依次通过连接管相连,缓冲腔体用于提供缓冲腔,供氧装置用于向缓冲腔和镜箱内输送氧气,缓冲腔体与供氧装置之间的连接管上设有第一微漏阀,镜箱与缓冲腔体之间的连接管上设有第二微漏阀,第二微漏阀与控制装置相连,以通过控制装置控制第二微漏阀的开度;缓冲腔体、供氧装置、第二微漏阀和控制装置位于辐射屏蔽墙外。本实用新型的碳清洗装置,通过控制装置远程控制第二微漏阀的开度,使位于辐射屏蔽墙内的镜箱内的氧气压强动态平衡在第一预设值,从而实现镜箱的碳清洗。

专利主权项内容

1.一种碳清洗装置,其特征在于,用于清洗位于辐射屏蔽墙内的镜箱内的镜面上的碳,所述碳清洗装置包括供氧装置和缓冲腔体,所述供氧装置、所述缓冲腔体和所述镜箱依次通过连接管相连,所述缓冲腔体用于提供缓冲腔,所述供氧装置用于向所述缓冲腔和所述镜箱内输送氧气,所述缓冲腔体与所述供氧装置之间的连接管上设有第一微漏阀,所述镜箱与所述缓冲腔体之间的连接管上设有第二微漏阀,所述第二微漏阀与控制装置相连,以通过所述控制装置控制所述第二微漏阀的开度;所述缓冲腔体、所述供氧装置、所述第二微漏阀和所述控制装置位于所述辐射屏蔽墙外。