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掩模清洗装置
申请人信息
- 申请人:三星显示有限公司
- 申请人地址:韩国京畿道
- 发明人: 三星显示有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 掩模清洗装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420371993.2 |
| 申请日 | 2024/2/28 |
| 公告号 | CN222112886U |
| 公开日 | 2024/12/6 |
| IPC主分类号 | B08B7/00 |
| 权利人 | 三星显示有限公司 |
| 发明人 | 赵炳勳; 郑锡宇; 金胜勳; 宋荣振; 李德重; 李振榕 |
| 地址 | 韩国京畿道 |
摘要文本
掩模清洗装置包括：收纳部，设置在腔室的内部且用于收容掩模；等离子体产生部，用于向腔室供给包括自由基的等离子体；以及气体供给部，用于向等离子体产生部供给气体，该掩模清洗装置能够防止掩模的损伤，并且提高掩模清洗效率。
专利主权项内容
1.一种掩模清洗装置，其特征在于，包括：
收纳部，设置在腔室的内部且用于收容掩模；
等离子体产生部，用于向所述腔室供给包括自由基的等离子体；以及
气体供给部，用于向所述等离子体产生部供给气体。