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一种消除板材磨影的抛光系统

申请号: CN202420849650.2
申请人: 佛山慧谷科技股份有限公司
申请日期: 2024/4/22

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种消除板材磨影的抛光系统
专利类型 实用新型
申请号 CN202420849650.2
申请日 2024/4/22
公告号 CN222114611U
公开日 2024/12/6
IPC主分类号 B24B27/00
权利人 佛山慧谷科技股份有限公司
发明人 邱建平; 叶华林; 童路洋; 邓健青; 程炜坚
地址 广东省佛山市南海区狮山镇小塘三环西路20号

摘要文本

本实用新型涉及石材加工设备技术领域,公开了一种消除板材磨影的抛光系统,包括粗抛光机、双侧抛光机、精抛光机和输送装置,所述双侧抛光机设置于所述粗抛光机的下游,所述精抛光机设置于所述双侧抛光机的下游;所述输送装置用于输送板材依次进入所述粗抛光机、所述双侧抛光机和所述精抛光机,所述双侧抛光机至少包括两组左右分布的抛光组件,位于左边的所述抛光组件用于对板材的左区域进行抛磨,位于右边的所述抛光组件用于对板材的右区域进行抛磨,所述抛光组件均独立可控。有效地消除现有抛光系统在板材表面的两侧留下的明显的像排骨纹的磨影。

专利主权项内容

1.一种消除板材磨影的抛光系统,其特征在于:包括粗抛光机(1)、双侧抛光机(2)、精抛光机(3)和输送装置(4),所述双侧抛光机(2)设置于所述粗抛光机(1)的下游,所述精抛光机(3)设置于所述双侧抛光机(2)的下游;所述输送装置(4)用于输送板材(100)依次进入所述粗抛光机(1)、所述双侧抛光机(2)和所述精抛光机(3);
所述双侧抛光机(2)至少包括两组左右分布的抛光组件(23),位于左边的所述抛光组件(23)用于对板材(100)的左区域(1001)进行抛磨,位于右边的所述抛光组件(23)用于对板材(100)的右区域(1002)进行抛磨,所述抛光组件(23)均独立可控。