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研磨垫修整器及化学机械研磨设备
申请人信息
- 申请人:芯恩(青岛)集成电路有限公司
- 申请人地址:266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401
- 发明人: 芯恩(青岛)集成电路有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 研磨垫修整器及化学机械研磨设备 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420827023.9 |
| 申请日 | 2024/4/19 |
| 公告号 | CN222114716U |
| 公开日 | 2024/12/6 |
| IPC主分类号 | B24B53/017 |
| 权利人 | 芯恩(青岛)集成电路有限公司 |
| 发明人 | 请求不公布姓名 |
| 地址 | 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401 |
摘要文本
本实用新型提供一种研磨垫修整器及化学机械研磨设备，包括具有不同修整区的修整盘及清洗结构，其中，修整盘包括N个不同的修整区，N≥2且为整数，各修整区之间具有隔离槽，且不同的修整区提供不同的粗糙度；清洗结构包括喷嘴，且喷嘴设置于隔离槽内，以提供清洗液。本实用新型可满足研磨垫对修整盘的多样化需求，实现修整盘的归一化，且可实现磨损物的及时清理。
专利主权项内容
1.一种研磨垫修整器，其特征在于，所述研磨垫修整器包括：
修整盘，所述修整盘包括N个不同的修整区，N≥2且为整数，各所述修整区之间具有隔离槽，且不同的所述修整区提供不同的粗糙度；
清洗结构，所述清洗结构包括喷嘴，所述喷嘴设置于所述隔离槽内，以提供清洗液。