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一种光刻版保护膜贴膜治具

申请号: CN202420754611.4
申请人: 江苏芯德半导体科技股份有限公司
申请日期: 2024/4/12

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种光刻版保护膜贴膜治具
专利类型 实用新型
申请号 CN202420754611.4
申请日 2024/4/12
公告号 CN222116055U
公开日 2024/12/6
IPC主分类号 B29C63/02
权利人 江苏芯德半导体科技股份有限公司
发明人 蒋志强; 张文龙
地址 江苏省南京市浦口区浦口经济开发区林春路8号

摘要文本

本发明的一种光刻版保护膜贴膜治具,包括底托和盖板;底托的顶面设有保护膜槽,环保护膜槽,底托的顶面设有若干用于限位光刻版的限位柱和若干弹簧柱,弹簧柱用于顶撑光刻版;盖板的底面设有若干对应弹簧柱的受力柱。通过保护膜槽限定待贴的保护膜,通过限位柱定位待贴膜的光刻版,利用弹簧柱弹性的压合光刻版,使光刻版与保护膜有效贴合并便于光刻板的取出。其提高了光刻版的贴膜效率和准确率,提高光刻版的使用率,解决产线因光刻版外送贴膜造成的产能和时间损失,满足产线产能要求,具有很强的实用性和广泛地适用性。

专利主权项内容

1.一种光刻版保护膜贴膜治具,其特征在于,包括底托和盖板;
所述底托的顶面设有保护膜槽,
环保护膜槽,底托的顶面设有若干用于限位光刻版的限位柱;
环保护膜槽,底托的顶面设有若干弹簧柱,所述弹簧柱用于顶撑光刻版;
所述盖板的底面设有若干对应弹簧柱的受力柱。