一种半导体用清洗腐蚀件及系统

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本申请提供一种半导体用清洗腐蚀件及系统，半导体用清洗腐蚀件包括侧壁弧形挡板以及底面圆盘；侧壁弧形挡板设在底面圆盘的外沿；底面圆盘上开设有多个供溶液通过的通孔；在底面圆盘用于与晶圆接触的一面上设置有多个凸起；多个凸起设置在通孔之间，凸起顶部为圆弧形结构。本申请提供半导体用清洗腐蚀件的底面圆盘设有凸起，凸起顶部圆弧形设计，防止划伤晶片或晶体，提高晶片或晶体与溶液的有效接触面积，减小溶液对晶片或晶体的水冲压；避免只设置通孔的平面设计在清洗过程中会在水冲压下带动晶片浮起，使腐蚀面无法接触溶液或接触不均匀的情况。同时此设计的溶液流动性强，减少装置提出液面时的溶液残留问题带来的二次腐蚀导致的不均匀问题。