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半导体结构

申请号: CN202420356502.7
申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
申请日期: 2024/2/26

专利详细信息

项目 内容
专利名称 半导体结构
专利类型 实用新型
申请号 CN202420356502.7
申请日 2024/2/26
公告号 CN222106723U
公开日 2024/12/3
IPC主分类号 H01L29/78
权利人 台湾积体电路制造股份有限公司
发明人 张尚文; 庄正吉; 蔡庆威; 邱奕勋; 黄禹轩
地址 中国台湾新竹

摘要文本

本实用新型提供一种半导体结构,包含第一垂直晶体管,其包含第一垂直半导体棒以及第一栅极介电质及第一栅极电极,环绕第一垂直半导体棒。第一垂直晶体管还包含第一源极/漏极区,位于第一垂直半导体棒的顶表面上方,以及第二源极/漏极区,接触第一垂直半导体棒的底表面。半导体结构还包含第一前侧电源线,位于第一垂直晶体管上方,以及第一后侧电源线,电性地连接至第一前侧电源线。第一后侧电源线位于第一垂直半导体棒下方,且第一后侧电源线连接至第二源极/漏极区。。百度搜索

专利主权项内容

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:
一第一垂直晶体管,包括:
一第一垂直半导体棒;
一第一栅极介电质及一第一栅极电极,环绕该第一垂直半导体棒;
一第一源极/漏极区,位于该第一垂直半导体棒的一顶表面上方;以及
一第二源极/漏极区,接触该第一垂直半导体棒的一底表面;
一第一前侧电源线,位于该第一垂直晶体管上方;以及
一第一后侧电源线,电性地连接至该第一前侧电源线,其中该第一后侧电源线位于该第一垂直半导体棒下方,且其中该第一后侧电源线连接至该第二源极/漏极区。 数据由整理