用于改善沉积炉镀膜均匀性的气流装置

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本实用新型公开了用于改善沉积炉镀膜均匀性的气流装置，涉及镀膜领域，包括进气管、输气管和多个喷气管，进气管安装在沉积炉的炉体内，进气管的进气口位于炉体外，进气管的进气口与工艺气体的气源出口连通，输气管的进气口与进气管的出气口连通，输气管设置有多个输气出口，一个喷气管的进气口与一个输气出口连通，喷气管两端的内径大于喷气管中部的内径，硅片位于喷气管下方；通过对喷气管的结构设计，气体经过的管径由大变小再变大，这就会使气体喷发出去，可对硅片间隙的中间区域快速补偿气体，能够改善硅片内部和边缘的表面的气体均匀性，从而提高镀膜的均匀性。