← 返回列表
雾化基质存储结构及雾化装置
申请人信息
- 申请人:爱奇迹创造有限公司
- 申请人地址:中国香港九龙新蒲岗大有街3号万迪广场19H
- 发明人: 爱奇迹创造有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 雾化基质存储结构及雾化装置 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420659436.0 |
| 申请日 | 2024/4/1 |
| 公告号 | CN222109303U |
| 公开日 | 2024/12/6 |
| IPC主分类号 | A24F40/42 |
| 权利人 | 爱奇迹创造有限公司 |
| 发明人 | 张志良; 段立武; 付尧; 郑志坚; 沈礼周 |
| 地址 | 中国香港九龙红磡都会道10号都会大厦2306室 |
摘要文本
本申请公开了雾化基质存储结构及雾化装置。该雾化装置包括壳体、承接件、储液容器、雾化组件及雾化基质存储结构。壳体包括具有抽吸通道的吸嘴、及与抽吸通道连通的安装腔;雾化基质存储结构的储液件和阻隔件设置于安装腔中,储液件设有与抽吸通道连通的安装通道;雾化组件安装于安装通道中,并且储液件吸附的雾化基质传输至雾化组件;承接件封闭安装腔的开口端,并设有补液通道,补液通道的出口与储液件的吸液端面和吸液侧面同时导通设置;储液容器的出液口与补液通道的进口相对接。储液容器的雾化基质可以经过该吸液端面和吸液侧面进入储液件中,使得雾化基质可以有更多的扩散方向,进而提高了雾化基质的补充速率,避免了对后续使用的不利影响。
专利主权项内容
1.雾化基质存储结构,其特征在于,包括:储液件(11)、以及阻隔件(12);
所述储液件(11)包括吸液端面(111)、以及吸液侧面(112);
所述阻隔件(12)抵设在所述储液件(11)的一侧;所述阻隔件(12)与所述吸液端面(111)相邻的表面设有缺口(121);
所述储液件(11)相对所述缺口(121)外露的侧面形成所述吸液侧面(112)。