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大面积光栅曝光系统
申请人信息
- 申请人:深圳光峰科技股份有限公司
- 申请人地址:518000 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼
- 发明人: 深圳光峰科技股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 大面积光栅曝光系统 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202420275475.0 |
| 申请日 | 2024/2/4 |
| 公告号 | CN222105677U |
| 公开日 | 2024/12/3 |
| IPC主分类号 | G02B5/18 |
| 权利人 | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 发明人 | 赵家琦; 苏晓磊; 李屹 |
| 地址 | 广东省深圳市南山区粤海街道学府路63号高新区联合总部大厦20-22楼 |
摘要文本
深圳光峰科技股份有限公司取得“一种透气窗帘布”专利技术，本申请公开了一种大面积光栅曝光系统，涉及光栅制造领域，包括曝光光源、光栅掩模、曝光基板、机械运动组件和参考光栅校准子系统，所述曝光光源用于发出曝光光束；所述光栅掩模具有校准区域和曝光区域，所述曝光光束经校准区域入射参考光栅校准子系统上并形成校准条纹，所述参考光栅校准子系统用于基于所述校准条纹获取所述光栅掩模与所述曝光基板之间的相对位姿误差，所述机械运动组件用于基于相对位姿误差调整曝光基板的位姿。因此，通过参考光栅校准子系统检测明暗条纹来实现光栅掩模与曝光基板之间的实时对位，提高了曝光基板在拼接曝光过程中的运动精度，从而提高了传统光刻的大面积光栅拼接精度。 （更多数据，详见）
专利主权项内容
1.一种大面积光栅曝光系统，其特征在于，包括曝光光源、光栅掩模、曝光基板、机械运动组件和参考光栅校准子系统，所述曝光光源用于发出曝光光束；
所述光栅掩模具有校准区域和曝光区域，所述曝光光束经过所述校准区域，入射所述参考光栅校准子系统上并形成校准条纹，所述曝光光束经所述曝光区域后，在所述曝光基板上形成曝光场；
所述参考光栅校准子系统用于基于所述校准条纹获取所述光栅掩模与所述曝光基板之间的相对位姿误差，所述机械运动组件与所述曝光基板及所述参考光栅校准子系统均连接，用于驱动所述曝光基板移动以使所述曝光基板上的不同区域在所述曝光场中曝光，并在所述曝光基板移动的过程中基于所述相对位姿误差调整所述曝光基板的位姿。