一种钙钛矿薄膜后处理设备及使用方法和应用

专利主权项内容

1.一种钙钛矿薄膜后处理设备，其特征在于，包括溶液喷涂清洗部分和溶剂沉积部分，所述溶液喷涂清洗部分包括可控制进出的第一密闭腔室以及设置在第一密闭腔室内的溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置，所述高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间，在所述第一密闭腔室上还设置有第一排气管道，所述溶液喷涂清洗部分还包括输送钙钛矿薄膜基片的第一传送装置，所述第一传送装置横跨所述第一密闭腔室，所述第一传送装置的传送带或传送轴设置在溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置的正下方；所述溶剂沉积部分包括可控制进出的第二密闭腔室以及设置在第二密闭腔室内的加热装置和溶剂蒸发装置，所述溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分，在所述第二密闭腔室上还设置有第二排气管道，所述溶剂沉积部分还包括横跨第二密闭腔室的传动轴装置，所述传动轴装置与第一传送装置衔接，用于传送从第一传送装置传输来的钙钛矿薄膜基片进入第二密闭腔室内，所述传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。