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专利摘要

一种气液二相流雾化清洗方法,包括:步骤1:通过气液二相流管路向工艺腔室内通入辅助气体;步骤2:经过第一预定时间后,通过气液二相流管路向工艺腔室内通入清洗液体至预定流量,清洗液体在辅助气体的作用下形成雾化颗粒;步骤3:停止向工艺腔室内通入清洗液体;步骤4:经过第二预定时间后,停止向工艺腔室内通入辅助气体。
该方法能够有效避免液滴溅射的现象发生,降低腔室污染。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811417538.7
申请日
2018-11-26
公开日
2021-07-13
公开号
CN110523729B
主分类号
/B/B08/ 作业;运输
标准类别
清洁
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

惠世鹏 滕宇 刘效岩

申请人

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

专利摘要

一种气液二相流雾化清洗方法,包括:步骤1:通过气液二相流管路向工艺腔室内通入辅助气体;步骤2:经过第一预定时间后,通过气液二相流管路向工艺腔室内通入清洗液体至预定流量,清洗液体在辅助气体的作用下形成雾化颗粒;步骤3:停止向工艺腔室内通入清洗液体;步骤4:经过第二预定时间后,停止向工艺腔室内通入辅助气体。
该方法能够有效避免液滴溅射的现象发生,降低腔室污染。

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