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专利摘要

本发明公开了一种光气化法制备异氰酸酯装置中酸性固体物的安全清理方法,包括以下步骤:任选的(a)溶剂升温清洗:使部分酸性固体物与溶剂接触升温分解,同时释放出其中包裹的光气、氯化氢;(b)灭活剂清洗:采用灭活剂溶液使绝大部分酸性物失活;(c)碱液清洗:使用碱液将剩余酸性物灭活,将固体物全部或部分溶解后从被清洗设备带出;以及(d)水清洗:将被清洗设备内残余物带出。
通过该方式在酸性固体物清洗时操作过程平稳可控,能够安全、高效地完成清洗任务。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911245055.8
申请日
2019-12-06
公开日
2021-07-23
公开号
CN111069203B
主分类号
/B/B08/ 作业;运输
标准类别
清洁
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

韩金平 尚永华 李同和 俞勇 李建峰 崔学磊 何伟 张翼强

申请人

万华化学集团股份有限公司

申请人地址

264006 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号

专利摘要

本发明公开了一种光气化法制备异氰酸酯装置中酸性固体物的安全清理方法,包括以下步骤:任选的(a)溶剂升温清洗:使部分酸性固体物与溶剂接触升温分解,同时释放出其中包裹的光气、氯化氢;(b)灭活剂清洗:采用灭活剂溶液使绝大部分酸性物失活;(c)碱液清洗:使用碱液将剩余酸性物灭活,将固体物全部或部分溶解后从被清洗设备带出;以及(d)水清洗:将被清洗设备内残余物带出。
通过该方式在酸性固体物清洗时操作过程平稳可控,能够安全、高效地完成清洗任务。

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