本发明属于治具清洗技术领域,公开了一种清洗装置。
该清洗装置包括用于清洗待清洗部的上清洗部和下清洗部以及用于驱动上清洗部和下清洗部同时运动的驱动机构,上清洗部位于下清洗部的下方,上清洗部和下清洗部在驱动机构的驱动下,其中一个做圆周运动,另一个做上下运动;上清洗部和下清洗部中的一个靠近待清洗部时,另一个远离待清洗部。
本发明通过上清洗部和下清洗部在驱动机构的驱动下,其中一个做圆周运动,另一个做上下运动,使得清洗效率和清洁度更高,且更节约成本,从而解决了现有清洗装置效率低的问题。
孔超 胡佩 葛晶
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本发明属于治具清洗技术领域,公开了一种清洗装置。
该清洗装置包括用于清洗待清洗部的上清洗部和下清洗部以及用于驱动上清洗部和下清洗部同时运动的驱动机构,上清洗部位于下清洗部的下方,上清洗部和下清洗部在驱动机构的驱动下,其中一个做圆周运动,另一个做上下运动;上清洗部和下清洗部中的一个靠近待清洗部时,另一个远离待清洗部。
本发明通过上清洗部和下清洗部在驱动机构的驱动下,其中一个做圆周运动,另一个做上下运动,使得清洗效率和清洁度更高,且更节约成本,从而解决了现有清洗装置效率低的问题。