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专利摘要

本发明公开了一种用于放射性去污的复合式纳秒激光去污装置及去污方法,协作去污方法包括以下步骤:驱动复合式纳秒激光去污装置的光学模组在待去污工件的上方作扫描式步进移动,相邻两次步进移动之间存在预设的时间间隔,每次步进移动之后,先启动高效纳秒激光器,并在运行第一时间段后停止,间隔第二时间段后启动超高能纳秒激光器,并在运行第三时间段后停止,且停止超高能纳秒激光器至下一次启动高效纳秒激光器之间间隔第四时间段;光学模组按照以上作步进移动,直至完成对待去污工件上表面的扫描。
本发明的两路激光间隔协作复合作业,仅需一次扫描即可完成待去污表面附着物去污和放射性构件的深度剥离解控去污,提高去污效率。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011208344.3
申请日
2020-11-03
公开日
2021-07-20
公开号
CN112382428B
主分类号
/B/B08/ 作业;运输
标准类别
清洁
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

魏少翀 黄骞 潘晨阳 邓春银 尹嵩 覃恩伟 朱青霞 叶林 陈国星 吴树辉 陆海峰 马学英 刘成威 季骅 刘艺武 王博

申请人

苏州热工研究院有限公司 中国广核集团有限公司 中国广核电力股份有限公司

申请人地址

215004 江苏省苏州市西环路1688号

专利摘要

本发明公开了一种用于放射性去污的复合式纳秒激光去污装置及去污方法,协作去污方法包括以下步骤:驱动复合式纳秒激光去污装置的光学模组在待去污工件的上方作扫描式步进移动,相邻两次步进移动之间存在预设的时间间隔,每次步进移动之后,先启动高效纳秒激光器,并在运行第一时间段后停止,间隔第二时间段后启动超高能纳秒激光器,并在运行第三时间段后停止,且停止超高能纳秒激光器至下一次启动高效纳秒激光器之间间隔第四时间段;光学模组按照以上作步进移动,直至完成对待去污工件上表面的扫描。
本发明的两路激光间隔协作复合作业,仅需一次扫描即可完成待去污表面附着物去污和放射性构件的深度剥离解控去污,提高去污效率。

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