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专利摘要

本发明涉及抛光液制备领域,特别是涉及一种钽酸锂还原片抛光液及其制备方法和用途。
本发明提供一种钽酸锂还原片抛光液,按重量百分比计,包括如下组分:液相载体35‑65%;二氧化硅颗粒15‑60%;氧化剂≤20%;亲核试剂0.005‑20%。
本发明发明人经过大量探索性实验,提供了一种新的钽酸锂还原片抛光液,所述钽酸锂还原片抛光液克服现有技术中的不足,其制备方法简单、高效。
此外,所述抛光液还通过特定的亲核试剂和氧化试剂并将他们合理组合,使得抛光液的抛光质量、抛光速率亦获得很大提升。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711479667.4
申请日
2017-12-29
公开日
2019-07-09
公开号
CN109988509A
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

汪为磊 霍军朝 刘卫丽 宋志棠

申请人

浙江新创纳电子科技有限公司

申请人地址

314406 浙江省嘉兴市海宁市斜桥镇云星路138号

专利摘要

本发明涉及抛光液制备领域,特别是涉及一种钽酸锂还原片抛光液及其制备方法和用途。
本发明提供一种钽酸锂还原片抛光液,按重量百分比计,包括如下组分:液相载体35‑65%;二氧化硅颗粒15‑60%;氧化剂≤20%;亲核试剂0.005‑20%。
本发明发明人经过大量探索性实验,提供了一种新的钽酸锂还原片抛光液,所述钽酸锂还原片抛光液克服现有技术中的不足,其制备方法简单、高效。
此外,所述抛光液还通过特定的亲核试剂和氧化试剂并将他们合理组合,使得抛光液的抛光质量、抛光速率亦获得很大提升。

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