本发明涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法，该精密抛光膜包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20‑200μm。
本发明的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，密纹区增强对工件的打磨性，而打磨后的工件削末则通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象。

方红 张航海 卞振伟

东莞金太阳研磨股份有限公司

523820 广东省东莞市大岭山镇大环路东66号

本发明涉及抛光膜技术领域，具体涉及一种具有特殊结构的精密抛光膜及其制备方法，该精密抛光膜包括基材层和设置于所述基材层表面的涂层，所述涂层中分布有磨料，所述涂层包括间隔设置的密纹区和疏纹区，所述密纹区的磨料分布密度大于疏纹区的磨料分布密度，相邻的密纹区与疏纹区的间隔距离为20‑200μm。
本发明的精密抛光膜，结构新颖，通过密纹区和疏纹区的设置，密纹区增强对工件的打磨性，而打磨后的工件削末则通过疏纹区导出，避免打磨削末堵塞在抛光膜上而影响抛光效率和效果，使得抛光膜能有效提高抛光膜的抛光效率，且强弱打磨效果的间隔设置，避免出现划伤、凹痕等现象。