本发明公开了一种可减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性的栅结构，所述的栅结构的两个侧面与靠近金属电极的底面形成的夹角小于90°。
本发明通过对微机械陀螺仪中的栅结构形状进行改进，将栅结构的两个垂直侧面优化为与底面形成夹角，可有效减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性。

郑旭东 王雪同 吴海斌 金仲和

浙江大学

310058 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号

本发明公开了一种可减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性的栅结构，所述的栅结构的两个侧面与靠近金属电极的底面形成的夹角小于90°。
本发明通过对微机械陀螺仪中的栅结构形状进行改进，将栅结构的两个垂直侧面优化为与底面形成夹角，可有效减小由电容边缘效应导致的电容‑位移之间的非线性。