本发明提供能有效地实现高品质的表面的硅晶圆研磨方法。
提供一种硅晶圆研磨方法,其包括如下工序:用包含磨粒的研磨浆料Sp进行研磨的中间研磨工序;和用包含磨粒的研磨浆料Sf进行研磨的精研磨工序。
作为上述研磨浆料Sp,使用具有大于上述研磨浆料Sf的相对雾度Hf的1倍且小于6.8倍的相对雾度Hp的研磨浆料。
土屋公亮 浅田真希
福吉米株式会社
日本爱知县
本发明提供能有效地实现高品质的表面的硅晶圆研磨方法。
提供一种硅晶圆研磨方法,其包括如下工序:用包含磨粒的研磨浆料Sp进行研磨的中间研磨工序;和用包含磨粒的研磨浆料Sf进行研磨的精研磨工序。
作为上述研磨浆料Sp,使用具有大于上述研磨浆料Sf的相对雾度Hf的1倍且小于6.8倍的相对雾度Hp的研磨浆料。