一种酸性化学机械抛光组合物，其优先于二氧化硅抛光氮化硅并同时抑制对所述二氧化硅的损伤。
所述酸性化学机械抛光组合物包括聚乙烯吡咯烷酮聚合物、阴离子官能胶体二氧化硅磨料颗粒以及胺羧酸。
所述酸性化学机械抛光组合物的pH为5或更小。

N·K·彭塔 K·E·特泰 M·范汉尼赫姆

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美国特拉华州

一种酸性化学机械抛光组合物，其优先于二氧化硅抛光氮化硅并同时抑制对所述二氧化硅的损伤。
所述酸性化学机械抛光组合物包括聚乙烯吡咯烷酮聚合物、阴离子官能胶体二氧化硅磨料颗粒以及胺羧酸。
所述酸性化学机械抛光组合物的pH为5或更小。