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专利摘要

本发明提供一种切割片及切割·芯片接合薄膜,其能够去除切割片的松弛,可以防止半导体元件彼此接触。
涉及一种切割片,其通过在100℃下加热1分钟而收缩,相对于加热前的MD方向的第1长度100%,加热后的MD方向的第2长度为95%以下。
切割片具备基材和配置在基材上的粘合剂层。
切割·芯片接合薄膜具备切割片和配置在粘合剂层上的粘接剂层。

专利状态

基础信息

专利号
CN201580067732.5
申请日
2015-12-10
公开日
2017-08-01
公开号
CN107004589A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

宍户雄一郎 三隅贞仁 大西谦司 柳雄一朗

申请人

日东电工株式会社

申请人地址

日本大阪府

专利摘要

本发明提供一种切割片及切割·芯片接合薄膜,其能够去除切割片的松弛,可以防止半导体元件彼此接触。
涉及一种切割片,其通过在100℃下加热1分钟而收缩,相对于加热前的MD方向的第1长度100%,加热后的MD方向的第2长度为95%以下。
切割片具备基材和配置在基材上的粘合剂层。
切割·芯片接合薄膜具备切割片和配置在粘合剂层上的粘接剂层。

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