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专利摘要

本发明涉及激光陀螺光学元件清洗技术领域,公开了一种激光陀螺光学元件的清洗方法。
该方法包括以下步骤:(1)将汽油、乙醚、丙酮和乙醇在浸泡池内按比例调配成清洗液;(2)将激光陀螺光学元件放入步骤(1)所述的清洗液中进行浸泡;(3)将在清洗液中浸泡后的激光陀螺光学元件放在纯水池内冲洗。
该方法通过简单的清洗过程以及简单的清洗液成分,有效去除激光陀螺光学元件表面的杂质,尤其是有机物杂质,实现激光陀螺光学元件表面清洁无杂质。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910673716.0
申请日
2019-07-24
公开日
2021-01-29
公开号
CN112275715A
主分类号
/C/C11/ 化学;冶金
标准类别
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡;由此制取的脂肪酸;洗涤剂;蜡烛
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

张岩 姜存光 常悦 刘囡南 杨凯森 董伟 王慧英 付吉国 李烺 付青青

申请人

国宏华业投资有限公司 国宏中晶集团有限公司

申请人地址

100089 北京市海淀区长春桥路11号3号楼12层1205

专利摘要

本发明涉及激光陀螺光学元件清洗技术领域,公开了一种激光陀螺光学元件的清洗方法。
该方法包括以下步骤:(1)将汽油、乙醚、丙酮和乙醇在浸泡池内按比例调配成清洗液;(2)将激光陀螺光学元件放入步骤(1)所述的清洗液中进行浸泡;(3)将在清洗液中浸泡后的激光陀螺光学元件放在纯水池内冲洗。
该方法通过简单的清洗过程以及简单的清洗液成分,有效去除激光陀螺光学元件表面的杂质,尤其是有机物杂质,实现激光陀螺光学元件表面清洁无杂质。

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