本发明公开了一种匀流件和工艺腔室。
所述匀流件包括本体，所述本体沿进气方向依次设置有至少两级匀流腔，且至少两级所述匀流腔的容积依次增大；相邻两级所述匀流腔之间相互连通，最后一级所述匀流腔用于与工艺腔室连通，以将经过至少两级匀流腔匀流后的工艺气体引入至所述工艺腔室中。
本发明的匀流件，至少两级匀流腔的容积依次增大，可以使得工艺气体受到压力变化的作用膨胀、扩散。
因此，可以改善工艺气体在匀流件内的分布，从而可以使得工艺气体在工艺腔室内分布更加均匀，进而可以提高工艺腔室中晶片的加工良率，降低制作成本，提高经济效益。

李新颖

北京北方华创微电子装备有限公司

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

本发明公开了一种匀流件和工艺腔室。
所述匀流件包括本体，所述本体沿进气方向依次设置有至少两级匀流腔，且至少两级所述匀流腔的容积依次增大；相邻两级所述匀流腔之间相互连通，最后一级所述匀流腔用于与工艺腔室连通，以将经过至少两级匀流腔匀流后的工艺气体引入至所述工艺腔室中。
本发明的匀流件，至少两级匀流腔的容积依次增大，可以使得工艺气体受到压力变化的作用膨胀、扩散。
因此，可以改善工艺气体在匀流件内的分布，从而可以使得工艺气体在工艺腔室内分布更加均匀，进而可以提高工艺腔室中晶片的加工良率，降低制作成本，提高经济效益。