本发明揭示一种能够在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。
来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模中的通孔图案以按所要图案沉积于所述衬底上。
所述蔽荫掩模固持于掩模卡盘中，所述掩模卡盘使所述蔽荫掩模及所述衬底能够间隔可小于10微米的距离。
因此，通过所述蔽荫掩模的所述汽化原子在通过其孔隙之后很少或不展现横向散布(即，羽化)，且所述材料以相对于所述蔽荫掩模的所述孔隙图案具有非常高保真度的图案沉积于所述衬底上。

A·P·高希 F·瓦然 M·阿南丹 E·多诺霍 I·I·哈尤林 T·阿里 K·泰斯

埃马金公司

美国纽约州

本发明揭示一种能够在衬底上形成高分辨率材料图案的直接沉积系统。
来自蒸镀源的汽化原子通过蔽荫掩模中的通孔图案以按所要图案沉积于所述衬底上。
所述蔽荫掩模固持于掩模卡盘中，所述掩模卡盘使所述蔽荫掩模及所述衬底能够间隔可小于10微米的距离。
因此，通过所述蔽荫掩模的所述汽化原子在通过其孔隙之后很少或不展现横向散布(即，羽化)，且所述材料以相对于所述蔽荫掩模的所述孔隙图案具有非常高保真度的图案沉积于所述衬底上。