本发明涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置，包括主机、真空抽气装置、电源及控制系统和机柜，主机包括工作腔室、样品架、五个磁控靶和样品挡板，五个磁控靶倾斜地环绕在工作腔室顶部，实现共溅射或依次溅射；每个磁控靶配有一个靶挡板，靶挡板通过收缩开合临时遮挡对应磁控靶；样品架设置在磁控靶的下方，样品架顶部设有样品罩，样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件。
样品挡板设在样品罩的上方。
镀膜制备装置的磁控靶的设计充分利用了工作腔室内部的空间，能够实现共溅射或依次溅射镀膜。
样品罩具有不少于100个样品通孔，能够单次同时制备上百个同样的样品，为材料基因组高通量镀膜提供可能。

刁训刚 秦建平 刁诗如

纳能镀膜丹阳有限公司

212300 江苏省镇江市丹阳市云阳镇南三环路科创园C3楼

本发明涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置，包括主机、真空抽气装置、电源及控制系统和机柜，主机包括工作腔室、样品架、五个磁控靶和样品挡板，五个磁控靶倾斜地环绕在工作腔室顶部，实现共溅射或依次溅射；每个磁控靶配有一个靶挡板，靶挡板通过收缩开合临时遮挡对应磁控靶；样品架设置在磁控靶的下方，样品架顶部设有样品罩，样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件。
样品挡板设在样品罩的上方。
镀膜制备装置的磁控靶的设计充分利用了工作腔室内部的空间，能够实现共溅射或依次溅射镀膜。
样品罩具有不少于100个样品通孔，能够单次同时制备上百个同样的样品，为材料基因组高通量镀膜提供可能。