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专利摘要

一种退镀方法,用于去除工件的镀层,所述工件包括基底和位于所述基底表面的所述镀层,所述镀层包括第一区和第二区,第一区和第二区相邻,退镀方法包括:激光扫描所述工件以去除第一区,并使第二区的表面粗糙度大于未被所述激光扫描前的第一区的表面粗糙度;以及将工件置于退镀液中进行电化学退镀处理,以去除第二区,得到基底。
本申请还提供一种退镀装置。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010969129.9
申请日
2020-09-15
公开日
2021-01-22
公开号
CN112251802A
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

黎延垠 温正新

申请人

深圳市裕展精密科技有限公司

申请人地址

518109 广东省深圳市观澜富士康鸿观科技园B区厂房5栋C09栋4层、C07栋2层、C08栋3层4层、C04栋1层

专利摘要

一种退镀方法,用于去除工件的镀层,所述工件包括基底和位于所述基底表面的所述镀层,所述镀层包括第一区和第二区,第一区和第二区相邻,退镀方法包括:激光扫描所述工件以去除第一区,并使第二区的表面粗糙度大于未被所述激光扫描前的第一区的表面粗糙度;以及将工件置于退镀液中进行电化学退镀处理,以去除第二区,得到基底。
本申请还提供一种退镀装置。

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