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专利摘要

电化学抛光用供液装置,包括电解槽,电解槽内安装有电解装置,所述电解槽内设置有电子比重计,电解槽的正上方设置有水桶,水桶内装有水,水桶下端连通有第一出水管,第一出水管上连通有第一电磁阀,电解槽一侧固定有网络信号收发器,电解槽另一侧顶部固定有搅拌槽。
电化学抛光用供液装置,具有自动配比电解液的功能,在电解槽内电解质的浓度过高或者过低时,可对电解槽内的电解液自动补充新的电解液和水,同时具有过滤功能,能对电解槽内的电解液析出的磷酸盐和硫酸盐沉淀物进行有效过滤,可对电解槽内的电解液进行搅拌,在以上工作过程中可对带水的工件进行有效的风干。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911174041.1
申请日
2019-11-26
公开日
2020-12-25
公开号
CN110923798B
主分类号
/C/C25/ 化学;冶金
标准类别
电解或电泳工艺;其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

王勇

申请人

王勇

申请人地址

314000 浙江省嘉兴市南湖区勤俭路611号4幢304室

专利摘要

电化学抛光用供液装置,包括电解槽,电解槽内安装有电解装置,所述电解槽内设置有电子比重计,电解槽的正上方设置有水桶,水桶内装有水,水桶下端连通有第一出水管,第一出水管上连通有第一电磁阀,电解槽一侧固定有网络信号收发器,电解槽另一侧顶部固定有搅拌槽。
电化学抛光用供液装置,具有自动配比电解液的功能,在电解槽内电解质的浓度过高或者过低时,可对电解槽内的电解液自动补充新的电解液和水,同时具有过滤功能,能对电解槽内的电解液析出的磷酸盐和硫酸盐沉淀物进行有效过滤,可对电解槽内的电解液进行搅拌,在以上工作过程中可对带水的工件进行有效的风干。

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