一种电化学沉积Pt-多孔铜基晶须催化剂材料 下载此专利PDF版本

CN202011113782.1 电化学 沉积

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专利摘要

本发明提供了一种电化学沉积Pt‑多孔铜基晶须催化剂材料，所述催化剂为整块状非粉末催化剂，所述催化剂的比表面积高50‑80m

专利状态

  1. 申请日
  2. 公开日
  3. 审查中-实审

基础信息

专利号
CN202011113782.1
申请日
2020-10-17
公开日
2020-12-29
公开号
CN112138682A
主分类号
/C/C25/ 化学；冶金
标准类别
电解或电泳工艺；其所用设备
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

左海珍

申请人

左海珍

申请人地址

014040 内蒙古自治区包头市九原区金沙华府4栋楼2单页2楼东户

专利摘要

本发明提供了一种电化学沉积Pt‑多孔铜基晶须催化剂材料，所述催化剂为整块状非粉末催化剂，所述催化剂的比表面积高50‑80m

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