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专利摘要

本发明涉及一种利用脉冲激光触发形核的方法,采用脉冲激光照射过冷熔体使其发生结构重排,以析出晶核;所述过冷熔体为氧化硅过冷熔体、或金属氧化物过冷熔体。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010294623.X
申请日
2020-04-15
公开日
2020-08-11
公开号
CN111519256A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

杨莉萍 李会东 钟秋 陶冶 徐子君 汪文兵 雒彩云

申请人

中国科学院上海硅酸盐研究所

申请人地址

200050 上海市长宁区定西路1295号

专利摘要

本发明涉及一种利用脉冲激光触发形核的方法,采用脉冲激光照射过冷熔体使其发生结构重排,以析出晶核;所述过冷熔体为氧化硅过冷熔体、或金属氧化物过冷熔体。

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