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专利摘要

本发明提供一种发光元件和发光元件的制造方法。
所述发光元件包括:基板;发光结构体,布置于所述基板上,且包括n型半导体层、p型半导体层以及位于所述n型半导体层与所述p型半导体层之间的活性层;ITO层,欧姆接触于所述p型半导体层;ZnO透明电极层,在所述p型半导体层上覆盖所述ITO层的上表面及侧面,并具有逆倾斜的侧面;分布式布拉格反射器,与所述发光结构体相向而布置于所述基板下表面;n电极,布置于所述n型半导体层上;以及p电极,布置于所述p型半导体层上。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010235914.1
申请日
2016-08-23
公开日
2020-07-14
公开号
CN111416025A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

李珍雄 申赞燮 李锦珠 李剡劤 梁明学 雅克布·J·理查德森 埃文·C·奥哈拉

申请人

首尔伟傲世有限公司

申请人地址

韩国京畿道安山市

专利摘要

本发明提供一种发光元件和发光元件的制造方法。
所述发光元件包括:基板;发光结构体,布置于所述基板上,且包括n型半导体层、p型半导体层以及位于所述n型半导体层与所述p型半导体层之间的活性层;ITO层,欧姆接触于所述p型半导体层;ZnO透明电极层,在所述p型半导体层上覆盖所述ITO层的上表面及侧面,并具有逆倾斜的侧面;分布式布拉格反射器,与所述发光结构体相向而布置于所述基板下表面;n电极,布置于所述n型半导体层上;以及p电极,布置于所述p型半导体层上。

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