目录

专利摘要

本发明属于二维材料领域,并具体公开了一种二维层状GeP材料及其制备方法和应用,制备方法包括如下步骤:S1采用锗单质和红磷制备GeP单晶块体;S2对GeP单晶块体进行电化学剥离得到二维层状GeP材料,电化学剥离时采用0.3mol/L~0.8mol/L的四丁基氨离子液体作为电解液。
本发明通过电化学剥离的方法制备出不同厚度的二维层状GeP纳米薄片,从而解决传统制备方法效率低、不易控制的问题,进一步提高制备二维材料制备的均匀性和可控性,制备出的二维材料在储能、生物载药、催化、非线性光学等方面有良好的应用前景。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010154342.4
申请日
2020-03-07
公开日
2020-06-23
公开号
CN111320153A
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

夏芳芳 翟天佑 张悦 王发坤

申请人

华中科技大学

申请人地址

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利摘要

本发明属于二维材料领域,并具体公开了一种二维层状GeP材料及其制备方法和应用,制备方法包括如下步骤:S1采用锗单质和红磷制备GeP单晶块体;S2对GeP单晶块体进行电化学剥离得到二维层状GeP材料,电化学剥离时采用0.3mol/L~0.8mol/L的四丁基氨离子液体作为电解液。
本发明通过电化学剥离的方法制备出不同厚度的二维层状GeP纳米薄片,从而解决传统制备方法效率低、不易控制的问题,进一步提高制备二维材料制备的均匀性和可控性,制备出的二维材料在储能、生物载药、催化、非线性光学等方面有良好的应用前景。

相似专利技术