本发明涉及硅片处理领域,公开了一种硅片清洗系统,包括依次连接的上料机构和清洗机构,上料机构包括至少一条平料传送带,平料传送带终端设有立片导槽,立片导槽终端竖直向下,立片导槽下方设有竖料传送带,竖料传送带沿传送方向设有至少一条立片传送槽,立片传送槽槽宽与硅片厚度相匹配,立片传送槽与立片导槽终端平行且一一对应,清洗机构包括清洗池,清洗池上方通过升降机构连有清洗框,以使清洗框能够进出清洗池,清洗框的入口与竖料传送带终端匹配,清洗框内平行设有若干插片槽,插片槽与立片传送槽平行且一一对应。
其能够自动上料,使硅片平行且间隔地插入清洗框,有效提升清洗效率,降低人工成本,避免硅片表面污染。
李健儿 冯永 胡仲波 敬春云 宋勇 王一超 李慕轩
四川上特科技有限公司
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本发明涉及硅片处理领域,公开了一种硅片清洗系统,包括依次连接的上料机构和清洗机构,上料机构包括至少一条平料传送带,平料传送带终端设有立片导槽,立片导槽终端竖直向下,立片导槽下方设有竖料传送带,竖料传送带沿传送方向设有至少一条立片传送槽,立片传送槽槽宽与硅片厚度相匹配,立片传送槽与立片导槽终端平行且一一对应,清洗机构包括清洗池,清洗池上方通过升降机构连有清洗框,以使清洗框能够进出清洗池,清洗框的入口与竖料传送带终端匹配,清洗框内平行设有若干插片槽,插片槽与立片传送槽平行且一一对应。
其能够自动上料,使硅片平行且间隔地插入清洗框,有效提升清洗效率,降低人工成本,避免硅片表面污染。