一种衍射光波导的制作方法
摘要文本
本申请提供了一种衍射光波导的制作方法，涉及光学技术领域，衍射光波导包括耦入光栅、耦出光栅或转折光栅，通过渐变的耦出光栅或转折光栅结构来调制计算喷墨打印压印胶的厚度，不同区域打印的压印胶厚度不同，实现分区精确控制；在本发明的基础上，根据光栅深度变化来确定预打印区域的压印胶厚度，使得本领域技术人员能够自由调控各区域的压印胶厚度，从而精确控制压印和刻蚀光栅结构的精度；另一方面相较于现有技术的匀胶方式，能够较大幅度地节约压印胶，减少压印成本，具有较好的经济效益。
申请人信息
- 申请人:上海鲲游科技有限公司
- 申请人地址:201306 上海市浦东新区临港新片区江山路2699号4号厂房西区
- 发明人: 上海鲲游科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种衍射光波导的制作方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311789573.2 |
| 申请日 | 2023/12/25 |
| 公告号 | CN117452551B |
| 公开日 | 2024/3/19 |
| IPC主分类号 | G02B6/00 |
| 权利人 | 上海鲲游科技有限公司 |
| 发明人 | 陈志高; 郭旭红; 陈和峰; 陈定强; 楼歆晔 |
| 地址 | 上海市浦东新区临港新片区江山路2699号4号厂房西区 |
专利主权项内容
1.一种衍射光波导的制作方法，其特征在于，所述衍射光波导包括耦入光栅和耦出光栅，所述耦出光栅的光栅深度沿着光线经所述耦入光栅作用后沿所述耦出光栅的第一传播方向渐变；该方法包括如下步骤：S1：确定所述耦入光栅的光栅深度h和所述耦出光栅的渐变光栅结构的光栅深度h；得到所述耦出光栅渐变的所述光栅结构的深度最大值h和最小值h；inoutout(max)out(min)S2：根据所述耦入光栅的光栅深度h和所述耦出光栅的所述光栅结构的深度最大值h之间的关系确定所述耦入光栅所在区域的预打印区域的第一压印胶胶层厚度h和确定所述耦出光栅所在区域的预打印区域的第二压印胶胶层厚度h；得到所述耦入光栅区域的打印压印胶的第一压印胶胶层厚度h和所述耦出光栅区域的打印压印胶的第二压印胶胶层厚度h；其中，h＝max(h，h)，h＝(h-h)×刻蚀选择比+E，h(x, y)＝(h-H(x, y))×刻蚀选择比+E；其中，H(x, y)为所述耦出光栅在坐标(x, y)处的光栅深度，E为压印残留胶层厚度的修正值，其取值范围为(0nm～10nm)；inout(max)in(print)out(print)in(print)out(print)maxinout(max)in(print)maxinout(print)max11S3：提供一基底，在所述基底上沉积光栅材料层；S4：根据步骤S2中确定的第一压印胶胶层厚度h和第二压印胶胶层厚度h，利用喷墨打印技术在所述光栅材料层的表面的不同区域分别打印不同厚度的压印胶胶层；形成所述耦入光栅的第一压印胶胶层和所述耦出光栅的第二压印胶胶层；in(print)out(print)S5：基于压印母版的定位基准使得所述压印母版对准步骤S4中的所述第一压印胶胶层和所述第二压印胶胶层，压印所对应的区域，形成不同区域的压印图案；S6：刻蚀步骤S5中确定的所述第一压印胶胶层和所述第二压印胶胶层的压印图案，将该压印图案复现在所述光栅材料层上，得到所述耦入光栅和渐变的所述耦出光栅。