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高稳定性、高同轴度的机械旋转光锥镀膜装置及镀膜方法
摘要文本
本发明是关于一种高稳定性、高同轴度的机械旋转光锥镀膜装置及镀膜方法，该装置包括旋转底座、掩膜版及样品仓；所述样品仓下端面与旋转底座的内部通过螺丝固定，且所述样品仓下端面的尺寸小于旋转底座内部的尺寸，所述样品仓的上端面与平台通过螺丝固定；所述旋转底座的外部下端面与掩膜版固定并带动所述掩膜板旋转。本发明所述的高稳定性、高同轴度的机械旋转光锥镀膜装置配合根据光锥渐晕形透过率设计的蜗形掩膜板通过一次镀膜过程便可实现在同一基底上膜厚不同渐变式分布的效果，从而达到提高均匀透过率的目的。。来自马-克-数-据-官网
申请人信息
- 申请人:中国建筑材料科学研究总院有限公司
- 申请人地址:100024 北京市朝阳区管庄东里1号
- 发明人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 高稳定性、高同轴度的机械旋转光锥镀膜装置及镀膜方法 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311624369.5 |
| 申请日 | 2023/11/30 |
| 公告号 | CN117604448A |
| 公开日 | 2024/2/27 |
| IPC主分类号 | C23C14/04 |
| 权利人 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 发明人 | 黄永刚; 邢育文; 焦朋; 独雅婕; 王云; 付杨; 王久旺; 褚淼 |
| 地址 | 北京市朝阳区管庄东里1号 |
专利主权项内容
1.一种高稳定性、高同轴度的机械旋转光锥镀膜装置，其特征在于，包括旋转底座、掩膜版及样品仓；所述样品仓下端面与旋转底座的内部通过螺丝固定，且所述样品仓下端面的尺寸小于旋转底座内部的尺寸，所述样品仓的上端面与平台通过螺丝固定；所述旋转底座的外部下端面与掩膜版固定并带动所述掩膜板旋转。