← 返回列表

高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用

申请号: CN202311624351.5
申请人: 中国建筑材料科学研究总院有限公司
申请日期: 2023/11/30

摘要文本

本发明涉及一种高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用。所述高均匀性、高透过率的光纤面板包括输出端部、输入端部和设置于所述输出端部、输入端部之间的光纤部;所述输出端部和/或输入端部的表面具有厚度由中心向边缘逐渐降低的薄膜;所述薄膜的厚度与位置满足:x=‑2×10‑7y6+8×10‑17y5+1×10‑4y4‑2×10‑14y3‑0.0315y2‑1×10‑11y+4.2165,其中:x为薄膜的绝对厚度,y为中心到边缘的距离。所要解决的技术问题是通过镀制均化膜以得到高均匀性、高透过率的光纤面板。。详见官网:

专利详细信息

项目 内容
专利名称 高均匀性、高透过率的光纤面板及其制备方法和应用
专利类型 发明申请
申请号 CN202311624351.5
申请日 2023/11/30
公告号 CN117590515A
公开日 2024/2/23
IPC主分类号 G02B6/08
权利人 中国建筑材料科学研究总院有限公司
发明人 黄永刚; 邢育文; 焦朋; 王云; 独雅婕; 宋普光; 张敬; 付杨; 褚淼
地址 北京市朝阳区管庄东里1号

专利主权项内容

1.一种高均匀性、高透过率的光纤面板,其特征在于,包括输出端部、输入端部和设置于所述输出端部、输入端部之间的光纤部;所述输出端部和/或输入端部的表面具有厚度由中心向边缘逐渐降低的薄膜;所述薄膜的厚度与位置满足:x=-2×10y+8×10y+1×10y-2×10y-0.0315y-1×10y+4.2165,其中:x为薄膜的绝对厚度,y为中心到边缘的距离。-76-175-44-1432-11