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一种防回流压力校准装置及方法

申请号: CN202311385720.X
申请人: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
申请日期: 2023/10/24

摘要文本

本发明公开了一种防回流压力校准装置及方法,所述防回流压力校准装置包括:气源组件,用于提供校准所需要的气体;第一压力调节件,第一压力调节件与气源组件连接,用于将气源组件提供的气体调节为标准气体;防回流组件,防回流组件包括依次设置在校准管路上的第一开闭阀、绕流管和气液隔离件,第一开闭阀设置在第一压力调节件的下游,用于控制校准管路的开闭,绕流管用于吸附校准管路中回流的气体杂质,气液隔离件用于隔离校准管路中的液体杂质;输出组件,输出组件包括测试接口,待校准件与测试接口连接。本发明解决了现有技术中待校准件容易对压力校准装置造成污染损坏的问题。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种防回流压力校准装置及方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311385720.X
申请日 2023/10/24
公告号 CN117346950A
公开日 2024/1/5
IPC主分类号 G01L27/00
权利人 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
发明人 王洋; 盛晓岩; 闫继超; 张贤; 孙义斌; 彭轶
地址 北京市海淀区温泉镇环山村1066信箱

专利主权项内容

1.一种防回流压力校准装置,其特征在于,包括:气源组件,用于提供校准所需要的气体;第一压力调节件(3),所述第一压力调节件(3)与所述气源组件连接,用于将所述气源组件提供的所述气体调节为标准气体;防回流组件,所述防回流组件包括依次设置在校准管路(18)上的第一开闭阀(5)、绕流管(7)和气液隔离件(9),所述第一开闭阀(5)设置在所述第一压力调节件(3)的下游,用于控制所述校准管路(18)的开闭,所述绕流管(7)用于吸附所述校准管路(18)中回流的气体杂质,所述气液隔离件(9)用于隔离所述校准管路(18)中的液体杂质;输出组件,所述输出组件包括测试接口(16),待校准件与所述测试接口(16)连接。