一种定位处理方法、系统、存储介质及电子设备
摘要文本
本申请公开了一种定位处理方法、系统、存储介质及电子设备,当定位飞行设备符合定位条件时,获取定位飞行设备的经纬度数据,通过预设计算方式和经纬度数据确定方位角和斜距,并将方位角和斜距确定为目标方位,通过垂直面扫描方式对目标方位进行扫描,得到垂直面扫描反射率标定结果,对垂直面扫描反射率标定结果进行分析,若垂直面扫描反射率标定结果符合预设条件,得到金属球的俯仰角度,通过平面扫描方式对金属球的俯仰角度进行扫描,得到金属球方位角,以完成金属球的定位。
申请人信息
- 申请人:华云敏视达雷达(北京)有限公司
- 申请人地址:100094 北京市海淀区丰秀中路3号院2号楼
- 发明人: 华云敏视达雷达(北京)有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种定位处理方法、系统、存储介质及电子设备 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311741760.3 |
| 申请日 | 2023/12/18 |
| 公告号 | CN117419681B |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | G01C1/00 |
| 权利人 | 华云敏视达雷达(北京)有限公司 |
| 发明人 | 周忆非; 孙召平; 张持岸; 虞海峰; 凤丹; 赵治卫; 黄朕 |
| 地址 | 北京市海淀区丰秀中路3号院2号楼 |
专利主权项内容
更多数据:搜索马克数据网来源: 1.一种定位处理方法,其特征在于,所述方法包括:当定位飞行设备符合定位条件时,获取定位飞行设备的经纬度数据;通过预设计算方式和所述经纬度数据确定方位角和斜距,并将所述方位角和所述斜距确定为目标方位;通过垂直面扫描方式对所述目标方位进行扫描,得到垂直面扫描反射率标定结果;对所述垂直面扫描反射率标定结果进行分析,得到第一差值、第二差值和第三差值;所述第一差值表示目标距离库与其相邻的前距离库的回波强度的差值;所述目标距离库表示在垂直面扫描反射率标定结果中雷达回波信号沿径向方向按距离分成的回波强度最大的距离单元;所述第二差值表示所述目标距离库与其相邻的后距离库的回波强度的差值;所述第三差值表示所述目标距离库相邻的前距离库与后距离库的回波强度差值;将所述第一差值与第一预设阈值进行比对,将所述第二差值与所述第一预设阈值进行比对,以及将所述第三差值的绝对值与第二预设阈值进行比对;若所述第一差值小于所述第一预设阈值且所述第二差值小于所述第一预设阈值,或所述第三差值的绝对值小于所述第二预设阈值,确定所述垂直面扫描反射率标定结果符合预设条件;在所述垂直面扫描反射率标定结果符合预设条件下,对目标距离库的反射率以预设仰角度进行平滑处理,得到平滑处理后的各个波峰;所述平滑处理用于防止扰动对金属球识别产生影响;从平滑处理后的各个波峰中识别出第一高峰和第二高峰;其中,所述第一高峰与第三高峰之间的强度差大于所述第一预设阈值;第一高峰的强度大于第二高峰的强度;所述第二高峰的强度大于第三高峰的强度;从所述第一高峰和所述第二高峰中选取俯仰角度最低的作为金属球的位置并标定金属球的俯仰角度;通过平面扫描方式对所述金属球的俯仰角度进行扫描,得到金属球方位角,以完成金属球的定位。