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一种菌体的洗涤方法
摘要文本
本发明公开了一种菌体的洗涤方法，该方法包括：在使用切向流过滤对含有菌体的菌液进行浓缩的过程中，使用氯化钠溶液进行菌体洗涤。通过本发明的方法进行洗涤，可以提高由洗涤所得菌体中提取的质粒质量。
申请人信息
- 申请人:北京艺妙神州医药科技有限公司; 北京希济生物科技有限公司
- 申请人地址:100195 北京市海淀区杏石口路80号B区1号楼3层316号
- 发明人: 北京艺妙神州医药科技有限公司; 北京希济生物科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种菌体的洗涤方法 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311783546.4 |
| 申请日 | 2023/12/22 |
| 公告号 | CN117431149B |
| 公开日 | 2024/3/8 |
| IPC主分类号 | C12M1/12 |
| 权利人 | 北京艺妙神州医药科技有限公司; 北京希济生物科技有限公司 |
| 发明人 | 鲁薪安; 田海霞; 何霆; 亓晓温; 杨路影 |
| 地址 | 北京市海淀区杏石口路80号B区1号楼3层316号; |
专利主权项内容
1.一种菌体的洗涤方法，其特征在于，该方法包括：在使用切向流过滤对含有菌体的菌液进行浓缩的过程中，使用氯化钠溶液进行菌体洗涤，然后使用第一盐溶液进行菌体洗涤；所述切向流过滤使用中空纤维柱进行，所述中空纤维柱的截留分子量为750-2500 kD；所述氯化钠溶液的浓度为0.9%，所述氯化钠溶液的用量为所述菌液的1-10倍体积；所述第一盐溶液含有：50 mM的葡萄糖、25 mM的Tris-Cl和10 mM EDTA，且所述第一盐溶液的pH为8.0；所述第一盐溶液的用量为所述菌液的1-10倍体积；所述菌液中含有10-50wt%的菌体；所述菌体为工程菌，且所述菌体含有质粒。