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高纯锗晶体及高纯锗探测器
摘要文本
本实用新型提供了一种高纯锗晶体及高纯锗探测器,涉及探测器技术领域。该高纯锗晶体包括:第一端部,在所述第一端部的外表面分布有P+电极;第二端部,与所述第一端部相对设置,在所述第二端部的外表面分布有N+电极;侧边台阶,设置在所述第二端部周向的预定范围内;其中,所述N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边。利用N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边,以提供高纯锗晶体装配中的工具夹持或是触碰区域,也可以防止装配操作过程中接触到探测器其他区域,使得在装配操作过程中即使接触洁净的工具/器皿都不会因轻微损坏或是污染电极导致功能失效,有利于减少装配过程中电极污染及损伤进而提高成品率。
申请人信息
- 申请人:清华大学
- 申请人地址:100084 北京市海淀区清华园1号
- 发明人: 清华大学
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 高纯锗晶体及高纯锗探测器 |
| 专利类型 | 实用新型 |
| 申请号 | CN202323059783.4 |
| 申请日 | 2023/11/14 |
| 公告号 | CN220290816U |
| 公开日 | 2024/1/2 |
| IPC主分类号 | H01L31/0352 |
| 权利人 | 清华大学 |
| 发明人 | 李玉兰; 李荐民; 王学武 |
| 地址 | 北京市海淀区清华园 |
专利主权项内容
1.一种高纯锗晶体,用于高纯锗探测器,其特征在于,包括:第一端部,在所述第一端部的外表面分布有P+电极;第二端部,与所述第一端部相对设置,在所述第二端部的外表面分布有N+电极;侧边台阶,设置在所述第二端部周向的预定范围内;其中,所述N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边。