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高纯锗晶体及高纯锗探测器

申请号: CN202323059783.4
申请人: 清华大学
申请日期: 2023/11/14

摘要文本

本实用新型提供了一种高纯锗晶体及高纯锗探测器,涉及探测器技术领域。该高纯锗晶体包括:第一端部,在所述第一端部的外表面分布有P+电极;第二端部,与所述第一端部相对设置,在所述第二端部的外表面分布有N+电极;侧边台阶,设置在所述第二端部周向的预定范围内;其中,所述N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边。利用N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边,以提供高纯锗晶体装配中的工具夹持或是触碰区域,也可以防止装配操作过程中接触到探测器其他区域,使得在装配操作过程中即使接触洁净的工具/器皿都不会因轻微损坏或是污染电极导致功能失效,有利于减少装配过程中电极污染及损伤进而提高成品率。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 高纯锗晶体及高纯锗探测器
专利类型 实用新型
申请号 CN202323059783.4
申请日 2023/11/14
公告号 CN220290816U
公开日 2024/1/2
IPC主分类号 H01L31/0352
权利人 清华大学
发明人 李玉兰; 李荐民; 王学武
地址 北京市海淀区清华园

专利主权项内容

1.一种高纯锗晶体,用于高纯锗探测器,其特征在于,包括:第一端部,在所述第一端部的外表面分布有P+电极;第二端部,与所述第一端部相对设置,在所述第二端部的外表面分布有N+电极;侧边台阶,设置在所述第二端部周向的预定范围内;其中,所述N+电极覆盖所述侧边台阶的底部和侧壁形成翻边。