双线性插值上采样方法、系统、设备和介质
摘要文本
提供双线性插值上采样方法、双线性插值上采样系统、电子设备和非暂时存储介质。双线性插值上采样方法包括确定目标图像中的多个目标像素点投影到源图像的多个投影像素点的各自的邻近像素点中是否存在共用的一个或多个邻近像素点，其中一个投影像素点的多个邻近像素点是源图像中与所述一个投影像素点最近的多个像素点，且利用所述多个邻近像素点的像素值来计算所述目标像素点的像素值；如果存在共用的一个或多个邻近像素点，则加载所述共用的一个或多个邻近像素点的像素值以在计算所述多个目标像素点的像素值时复用所加载的共用的一个或多个邻近像素点的像素值。如此，能够节省计算成本、数据吞吐量和存取时间，优化图像插值的性能。
申请人信息
- 申请人:北京壁仞科技开发有限公司; 上海壁仞科技股份有限公司
- 申请人地址:100085 北京市海淀区上地信息路26号1层0106-508室
- 发明人: 北京壁仞科技开发有限公司; 上海壁仞科技股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 双线性插值上采样方法、系统、设备和介质 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311775142.0 |
| 申请日 | 2023/12/22 |
| 公告号 | CN117478816B |
| 公开日 | 2024/3/15 |
| IPC主分类号 | H04N7/01 |
| 权利人 | 北京壁仞科技开发有限公司; 上海壁仞科技股份有限公司 |
| 发明人 | 请求不公布姓名; 请求不公布姓名; 请求不公布姓名; 请求不公布姓名 |
| 地址 | 北京市朝阳区望京东园四区13号楼-4至33层101内10层201室; 上海市闵行区陈行公路2388号16幢13层1302室 |
专利主权项内容
1.一种双线性插值上采样方法，包括：确定目标图像中的多个目标像素点投影到源图像的多个投影像素点的各自的邻近像素点中是否存在共用的一个或多个邻近像素点，其中一个投影像素点的多个邻近像素点是源图像中与所述一个投影像素点最近的多个像素点，且利用所述多个邻近像素点的像素值来计算所述目标像素点的像素值；如果存在共用的一个或多个邻近像素点，则加载所述共用的一个或多个邻近像素点的像素值以在计算所述多个目标像素点的像素值时复用所加载的共用的一个或多个邻近像素点的像素值，在计算所述多个目标像素点的像素值时利用N*N滑窗来加载邻近像素点，根据N*N滑窗滑动步长M一次能够计算出相同数量的投影像素点的像素值来设置滑窗大小N和滑动步长M，其中，利用N*N个线程本地寄存器来缓存每次滑窗中的N*N个邻近像素点的像素值，在利用A*B个邻近像素点的像素值作为一个单元计算目标像素点的像素值的情况下，利用B+1个线程本地寄存器来缓存N*N个滑动窗在A*B单元中滑动一行后的最下一行的共B个邻近像素点的像素值以及该最下一行的最左侧邻近像素点左侧的一个邻近像素点的像素值，其中，如果所述最左侧邻近像素点左侧没有像素点，则按越界模式处理，利用A个线程本地寄存器来缓存每个A*B单元的最右一列的A个邻近像素点的像素值，其中M、N、A和B为正整数。