← 返回列表

一种高效制备碳纳米材料的流化床系统与方法

申请号: CN202311490939.6
申请人: 清华大学
申请日期: 2023/11/9

摘要文本

本发明提供一种高效制备碳纳米材料的流化床系统与方法,通过在流化床内设置低温撞击流区和高温碳纳米材料生长区,再在低温撞击流区内设置撞击结构来产生撞击流,不间断粉碎聚团的碳纳米材料、聚团的催化剂和/或聚团的模板剂,然后粉碎后的小颗粒在高温碳纳米材料生长区继续生长,获得粒径小于5μm,堆积密度不超过0.1g/mL的碳纳米材料,材料的流动性明显改善,催化剂和/或模板剂的利用率增高,后续不用再研磨,时间成本可节省50%,装置投资节约10‑15%。此外,粒径减小的催化剂和/或模板剂的活性增加5‑25%,使得碳纳米材料的成品率增加了30‑35%,处理成本降低30‑50%,废液减少300‑500%。相比于直接将撞击结构放在高温区,本发明的结构更稳定,对颗粒的破碎效果提升50‑100%。 来自:马 克 团 队

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种高效制备碳纳米材料的流化床系统与方法
专利类型 发明申请
申请号 CN202311490939.6
申请日 2023/11/9
公告号 CN117504744A
公开日 2024/2/6
IPC主分类号 B01J8/24
权利人 清华大学
发明人 崔超婕; 骞伟中
地址 北京市海淀区清华园

专利主权项内容

1.一种高效制备碳纳米材料的流化床系统,其特征在于,所述流化床系统包括流化床本体,所述流化床本体内设置有多孔分布板,所述多孔分布板将所述流化床本体分隔为低温撞击流区和高温碳纳米材料生长区;所述低温撞击流区位于所述流化床本体的下部,所述低温撞击流区设置有撞击结构,所述撞击结构产生的撞击流用于粉碎聚团的大颗粒固体;所述撞击结构由对向设置的两个气体喷嘴组成,所述气体喷嘴中的气流相互碰撞形成所述撞击流,或,所述撞击结构由对向设置的气体喷嘴与金属块/陶瓷块组成,所述气体喷嘴中的气流垂直喷向所述金属块/陶瓷块形成所述撞击流。