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干扰模板图像的生成方法及装置

申请号: CN202311846800.0
申请人: 北京宏锐星通科技有限公司
申请日期: 2023/12/29

摘要文本

本申请提供一种干扰模板图像的生成方法及装置。所述方法包括:在预设的背景样本图像库中获取背景样本图像;根据预设的干扰模板图像尺寸,通过预设的噪声处理模型生成背景模板图像;通过预设的邻域矩阵模型,在背景模板图像中确定当前待处理像素块的第一邻域矩阵,并在背景样本图像中确定与第一邻域矩阵具有相同矩阵属性参数的若干第二邻域矩阵;计算第一邻域矩阵与每一第二邻域矩阵之间的距离值,以确定目标像素块;根据目标像素块的颜色参数,更新待处理像素块的颜色参数;当背景模板图像中待处理像素块的颜色参数更新完成时,得到第一干扰模板图像。这样,可以在SAR对抗过程中,提供包含虚假环境信息的干扰图像,增加了对SAR的干扰效果。。数据由马 克 数 据整理

专利详细信息

项目 内容
专利名称 干扰模板图像的生成方法及装置
专利类型 发明申请
申请号 CN202311846800.0
申请日 2023/12/29
公告号 CN117496000A
公开日 2024/2/2
IPC主分类号 G06T11/00
权利人 北京宏锐星通科技有限公司
发明人 吴彦鸿; 张合敏
地址 北京市海淀区上地东路1号院3号楼七层701-704室

专利主权项内容

1.一种干扰模板图像的生成方法,所述干扰模板图像用于对合成孔径雷达进行欺骗干扰,其特征在于,包括以下步骤:在预设的背景样本图像库中,获取背景样本图像;根据预设的干扰模板图像尺寸,通过预设的噪声处理模型,生成由若干待处理像素块组成的背景模板图像;通过预设的邻域矩阵模型,在所述背景模板图像中确定当前待处理像素块对应的第一邻域矩阵;通过预设的邻域矩阵模型,在所述背景样本图像中确定与所述第一邻域矩阵具有相同矩阵属性参数的若干第二邻域矩阵;通过预设的距离计算模型,计算所述第一邻域矩阵与每一所述第二邻域矩阵之间的距离值,以确定背景样本图像中与所述第一邻域矩阵具有最小距离值对应关系的第二邻域矩阵对应的目标像素块;根据所述目标像素块的颜色参数,更新当前待处理像素块的颜色参数;当所述背景模板图像中待处理像素块的颜色参数更新完成时,得到用于对合成孔径雷达进行欺骗干扰的第一干扰模板图像。 (来 自 马 克 数 据 网)