← 返回列表
仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质
摘要文本
本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质,本发明的仿真坏点的修正方法包括以下步骤:提供一掩模版图,获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置;获取该掩模版图对应的设计版图,获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形,得到修正后的新设计版图;对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据;基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证,若仍存在仿真坏点,则持续修正设计版图仿真坏点处图形,直到仿真坏点完全修复;若无仿真坏点,则坏点已解决,输出最终设计版图。从设计版图入手对仿真坏点位置进行修正,更全面高效地解决了仿真坏点的问题。
申请人信息
- 申请人:东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
- 申请人地址:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼
- 发明人: 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311277940.0 |
| 申请日 | 2023/9/28 |
| 公告号 | CN117391040A |
| 公开日 | 2024/1/12 |
| IPC主分类号 | G06F30/398 |
| 权利人 | 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司 |
| 发明人 | 张生睿; 俞宗强; 施伟杰 |
| 地址 | 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼 |
专利主权项内容
1.一种仿真坏点的修正方法,其特征在于:包括以下步骤:提供一掩模版图,获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置;获取该掩模版图对应的设计版图,获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形,得到修正后的新设计版图;对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据;基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证,若仍存在仿真坏点,则持续修正设计版图仿真坏点处图形,直到仿真坏点完全修复;若无仿真坏点,则坏点已解决,输出最终设计版图。