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仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质

申请号: CN202311277940.0
申请人: 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
申请日期: 2023/9/28

摘要文本

本发明涉及光刻技术领域,特别涉及一种仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质,本发明的仿真坏点的修正方法包括以下步骤:提供一掩模版图,获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置;获取该掩模版图对应的设计版图,获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形,得到修正后的新设计版图;对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据;基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证,若仍存在仿真坏点,则持续修正设计版图仿真坏点处图形,直到仿真坏点完全修复;若无仿真坏点,则坏点已解决,输出最终设计版图。从设计版图入手对仿真坏点位置进行修正,更全面高效地解决了仿真坏点的问题。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 仿真坏点的修正方法、神经网络训练方法及存储介质
专利类型 发明申请
申请号 CN202311277940.0
申请日 2023/9/28
公告号 CN117391040A
公开日 2024/1/12
IPC主分类号 G06F30/398
权利人 东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司
发明人 张生睿; 俞宗强; 施伟杰
地址 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼

专利主权项内容

1.一种仿真坏点的修正方法,其特征在于:包括以下步骤:提供一掩模版图,获取该掩模版图中的仿真坏点及对应位置;获取该掩模版图对应的设计版图,获取并修正设计版图中对应的仿真坏点处图形,得到修正后的新设计版图;对新设计版图做光学临近修正得到新掩模数据;基于新掩模数据针对仿真坏点位置做光刻仿真验证,若仍存在仿真坏点,则持续修正设计版图仿真坏点处图形,直到仿真坏点完全修复;若无仿真坏点,则坏点已解决,输出最终设计版图。