一种待测样品微观结构测量定位方法以及系统
摘要文本
本发明提供一种待测样品微观结构测量定位方法以及系统，方法包括：处理单元接收置于支撑件上的待测样品的真实扫描信息；处理单元将待测样品的真实扫描信息与待测样品记录信息进行对比分析，生成待测样品所需拟合图像信息；处理单元基于待测样品所需拟合图像信息以及待测样品记录信息，生成原子力显微镜能够识别的待测样品测量定位文件。当实际待测样品存在缺陷或者规格不满足要求，且待测样品的待测位置信息为具体点位信息时，提高待测样品所需测量位置的定位精度，降低测试时长，提高测试效率。 来源：专利查询网
申请人信息
- 申请人:北京至格科技有限公司
- 申请人地址:102308 北京市门头沟区石龙工业区桥园路1号1幢1层102室
- 发明人: 北京至格科技有限公司
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种待测样品微观结构测量定位方法以及系统 |
| 专利类型 | 发明授权 |
| 申请号 | CN202311841197.7 |
| 申请日 | 2023/12/29 |
| 公告号 | CN117491686B |
| 公开日 | 2024/3/19 |
| IPC主分类号 | G01Q10/00 |
| 权利人 | 北京至格科技有限公司 |
| 发明人 | 冒新宇; 赵洋; 赵宇暄; 孟祥峰 |
| 地址 | 北京市门头沟区石龙工业区桥园路1号1幢1层102室 |
专利主权项内容
1.一种待测样品微观结构测量定位方法，其特征在于，包括如下步骤：在处理单元内存储包括待测样品项目类别、待测样品型号以及待测样品理论设计信息在内的待测样品记录信息；所述待测样品理论设计信息包括待测样品理论设计边缘轮廓、待测样品理论设计尺寸以及待测样品理论设计测量位置；处理单元接收置于支撑件上的待测样品的真实扫描信息；所述待测样品的真实扫描信息包括：待测样品的实际边缘轮廓、待测样品的实际尺寸以及待测样品的实际边缘轮廓在水平方向和垂直方向的延伸交汇点；所述处理单元将所述待测样品的实际边缘轮廓与所述待测样品理论设计边缘轮廓进行对比；若两者的边缘轮廓差异在设定误差范围内，则处理单元以待测样品的真实扫描信息在拟合测量区生成待测样品初步拟合图像信息；若两者的边缘轮廓差异不在设定误差范围内，则处理单元以修正的待测样品的真实扫描信息在拟合测量区生成待测样品初步拟合图像信息；其中，修正的待测样品的真实扫描信息包括待测样品的实际尺寸、待测样品理论设计边缘轮廓；待测样品初步拟合图像信息包括待测样品初步拟合图像的尺寸、待测样品初步拟合图像的边缘轮廓以及待测样品初步拟合图像与拟合测量区内水平X轴的角度差；所述处理单元根据待测样品理论设计信息对所述待测样品初步拟合图像信息进行修正，得到待测样品所需拟合图像信息；处理单元基于所述待测样品所需拟合图像信息以及待测样品理论设计测量位置，生成原子力显微镜能够识别的待测样品测量定位文件。 来自：