← 返回列表
一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统
摘要文本
本发明涉及光场成像的技术领域，具体提供基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统，方法包括：获取光场原始图像；采用光场参数化，为角坐标，为空间坐标，输入光场中的每个像素并基于候选深度标签重新映射到剪切光场；根据剪切光场，判断遮挡类型；若遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图；采用多种滤波策略，对初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。因此，本发明基于场景立体模型得到的遮挡图用于遮挡检测，以提高遮挡检测的精确度；提升算法对噪声和遮挡的适应能力，提高了光场深度估计的精度。
申请人信息
- 申请人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
- 申请人地址:130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号
- 发明人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
专利详细信息
| 项目 | 内容 |
|---|---|
| 专利名称 | 一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法及系统 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 申请号 | CN202311821225.9 |
| 申请日 | 2023/12/27 |
| 公告号 | CN117474922A |
| 公开日 | 2024/1/30 |
| IPC主分类号 | G06T7/00 |
| 权利人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 发明人 | 吴薇; 赵庆磊; 张宇; 齐彪; 白小田; 李国宁; 金龙旭 |
| 地址 | 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号 |
专利主权项内容
1.一种基于内联遮挡处理的抗噪光场深度测量方法，其特征在于，包括：S1.获取光场原始图像；S2.对所述光场原始图像进行光场参数化，/>为角坐标，/>为空间坐标，输入光场/>中的每个像素并基于候选深度标签/>重新映射到剪切光场；S3.根据所述剪切光场，判断遮挡类型；S4.若所述遮挡为线型遮挡，则构造部分角度域成本量；若所述遮挡为块遮挡，则构造自适应角度域成本量；S5.根据成本最小准则，求解成本量的初始深度图，所述成本量包括所述部分角度域成本量或所述自适应角度域成本量；S6.采用多种滤波策略，对所述初始深度图进行噪声感知优化，获取最终深度图。