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一种焦平面区域的曝光方法及曝光系统

申请号: CN202311511045.0
申请人: 四川新视创伟超高清科技有限公司
申请日期: 2023/11/13

摘要文本

本发明提供一种焦平面区域的曝光方法及曝光系统,通过获取待曝光画面,确定待曝光画面的焦点位置,并将待曝光画面划分为中央区域和边缘区域;再计算并得到中央区域与边缘区域的亮度差值以及亮度分布标准差;最后基于第一预设条件、第二预设条件和第三预设条件从中央加权平均测光法、矩阵测光法和点测光法中择一曝光待曝光画面,本发明将中央加权平均测光方法、点测光方法和矩阵测光方法引入自适应的曝光系统,基于不同的拍摄场景和条件,通过分析获取画面的中央区域和边缘区域的亮度分布差异和亮度差来自适应地选择最佳的曝光方式,以获得优质的图像,并更准确、灵活和高质量地进行图像曝光控制,提升摄影和图像采集领域的用户体验和创造性。

专利详细信息

项目 内容
专利名称 一种焦平面区域的曝光方法及曝光系统
专利类型 发明申请
申请号 CN202311511045.0
申请日 2023/11/13
公告号 CN117560576A
公开日 2024/2/13
IPC主分类号 H04N23/70
权利人 四川新视创伟超高清科技有限公司
发明人 郑慧明; 李子清; 谢超平; 钟义啸; 蒋涵; 佘俊; 赵周丽; 王玄泽
地址 四川省成都市盛通街88号天府长岛2期2号楼401

专利主权项内容

微信公众号马克 数据网 1.一种焦平面区域的曝光方法,其特征在于,所述曝光方法包括以下步骤:S1:获取待曝光画面,确定所述待曝光画面的焦点位置,并将所述待曝光画面划分为中央区域和边缘区域;S2:计算并得到所述中央区域与所述边缘区域的亮度差值以及亮度分布标准差;S3:基于第一预设条件、第二预设条件和第三预设条件从中央加权平均测光法、矩阵测光法和点测光法中择一曝光所述待曝光画面。